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2026/04
重磅研究:7nm FinFET 性能优化的隐藏密码 —— 栅极与鳍片间距调控
Gate和FinSpaceVariation对应力调制及FinFET性能的影响随着半导体工艺持续向先进节点演进,图形化工艺偏差引发的细微效应已成为器件性能优化的核心考量要素。普迪飞(PDFSolutions)与意大利布雷西亚大学的研究团队近...